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看着眼前的光刻机,赵阳激动不已。
光刻机,它利用光的衍射原理,可以在硅片上生成微米级精度的电路图案,这对集成电路的批量生产意义重大。
光刻机的工作原理是,先用超纯净的晶圆作为集成电路的载体,然后在晶圆表面蒸镀一层均匀的光刻胶。
光刻胶是一种感光材料,经过光照射后,可以产生化学变化。
接下来的关键步骤是利用掩膜。
掩膜上面开设有需要在硅片上形成的电路图形的孔槽或透明区域,可以控制光线只照射在特定区域。
制作掩膜需要先绘制精细的电路设计图,然后通过放大、缩小等光学手段,将电路设计图案以相应的比例投影到掩膜上,这样掩膜上的图案就与电路设计一一对应了。
有了掩膜,就可以利用光刻机上的聚光镜头,将紫外线光束经掩膜准确照射到硅片上的光刻胶上,经过显影,原本完整�
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